园区介绍
重庆两江新区半导体产业园项目落户两江新区水土高新园,位于方正大道与云汉大道西北交汇处,项目总投资18亿元,占地377亩,总建筑面积约44万平方米。两江半导体产业园定位为中国西部半导体发展新引擎、重庆半导体产业创新示范基地。未来将被打造成一个以半导体产业为核心, IC设计为重点,辐射汽车电子、人工智能、物联网、智能终端等产业,承载公共服务平台、产业创新孵化、研发设计总部、产业应用延伸等功能的特色园区。园区产品类型丰富,除了企业总部独栋、多层标准厂房、高层研发楼、地标建筑研发楼外,还将依托政府搭建一个可满足IC设计企业流片、 封装测试等需求于一体的半 导体产业公共服务平台,以满足IC设计类企业的需求。
园区产品
独栋企业总部：三层产品，首层7.2米，标准层4.2米，单层面积分800㎡/1000㎡，独栋面积为2400㎡/3000㎡；
多层标准厂房：四/五层产品，首层6.6米，标准层4.2米，每层分两户（700㎡+800㎡），面积1500㎡，单户双拼产品面积为：3000㎡/3500㎡;
多层标准厂房：四/五层产品，首层6.6米，标准层4.2米，每层分两户（700㎡+800㎡），面积1500㎡，单户双拼产品面积为：3000㎡/3500㎡;
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园区位置